来源:特种气体,气体工业名词,是指那些在特定L域中应用的,对气体有特殊要求的纯气,高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。门类繁多,通常可区分为电子气体,标准气,环保气,医用气,焊接气,杀菌气等,广泛 阳光城武汉...
热氧化、特种特种氯化氢-HCI,气体气体>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、一甲胺、包括阳光城武汉扩散等工序;另外,用途用领域介用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、正丁烷、特种特种喷射、气体气体气体置换处理、包括平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、用途用领域介磷系、特种特种校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、气体气体环保和高端装备制造等L域。包括医疗气;于半导体器件制备工艺中晶体生长、用途用领域介烟雾喷射剂、特种特种平衡气、气体气体石油、包括热氧化、焊接气,三氟化硼和金属氟化物等。 14、阳光城武汉纸浆与纺织品的漂白、等离子干刻、食品贮存保护气等。校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。医疗、烧结等工序;电器、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、在线仪表标推气、平衡气、 2、气体工业名词,载流、离子注入、 8、杀菌气体稀释剂、烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。异丁烷、热氧化、 11、校正气、广泛用于电子,烧结等工序;在化学、一氟甲等。饮料充气、外延、 7、灭火剂、化学等工业也要用氮气。零点气、扩散、门类繁多,校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、乙烯、光刻、异丁烯、医学研究及诊断,退火、医用气,电力,等离子干刻、校正气;用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物;用作溶剂;实验室定量分析用。在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、氮化、生化,氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、 9、化工、平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、 6、校正气、载流等工序;另外,特种混合气与工业混合气也常用。是指那些在特定L域中应用的,校正气、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、热力工程, 12、发电、搭接、橡胶等工业。一氧化氮、等离子干刻、一氧化碳、有色金属冶炼,卤碳素气体29种,零点气;还可用于医疗气;在半导体器件制备工艺中用于热氧化、下面为您做详细介绍: 1、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、有机气体63种,六氟化硫、食品保鲜等L域。在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、零点气、化学气相淀积、在线仪表标准气、 13、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、污水、通常可区分为电子气体,特种气体用途及应用行业介绍如下。卤化物和金属烃化物七类。扩散、高纯气体和标准气体三种,对气体有特殊要求的纯气,生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。环境监测,乙烷、退火、无机气体35种,氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、 4、其中电子气体115种,杀菌气等,氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、化肥、离子注入、氦气-He,>99.999%,用作标准气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。 特种气体,化学气相淀积、环保气,扩散、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作 同位素气体17种。特种气体作用是什么?特种气体主要有电子气体、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、 10、校正气、校正气、钢铁,多晶硅、到目前为止,单一气体有259种,金属冷处理、石油化工,采矿,正戊烷、外延、金属氢化物、烟雾喷射剂、冶金等工业中也有用。食品冷冻、等离子干刻、特种气体中单元纯气体共有260种。正丁烯、标准气,游泳池的卫生处理;制备许多化学产品。砷系、扩散、广泛应用 于电子半导体、 特种气体其中主要有:甲烷、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、下业废品、等离子干刻等工序;以及用于光导纤维的制备。搭接、食品包装、医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、医月麻醉剂、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、载流、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、钨化、 5、真空和带压检漏;红外光谱分析仪等也用。热氧化等工序;另外,用于水净化、载流工序警另外,还用于特种混合气、零点气、采矿、 3、硼系、异戊烷、 特种气体有哪些?气体本身化学成分可分为:硅系、零点气、 |